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影響日本安立光譜分析儀測(cè)量的內(nèi)在因素

更新時(shí)間:2021-08-11      點(diǎn)擊次數(shù):1056
   在光譜的測(cè)量、各參考點(diǎn)通路信號(hào)光功率、各參考點(diǎn)光信噪比、光放大器各個(gè)波長(zhǎng)的增益系數(shù)和增益平坦度的測(cè)試都可以使用日本安立光譜分析儀,它被廣泛應(yīng)用于輻射度學(xué)分析、顏色測(cè)量、化學(xué)成份分析等領(lǐng)域。在了解了日本安立光譜分析儀的投射測(cè)定的相關(guān)內(nèi)容后,我們?cè)賮砜纯从绊憸y(cè)量的一些內(nèi)在因素。
  1.物理干擾
  物理干擾是指在樣品轉(zhuǎn)移和蒸發(fā)過程中任何物理因素變化引起的干擾效應(yīng)。屬于此類干擾的因素包括:測(cè)試溶液的粘度、溶劑的蒸氣壓、霧化氣體的壓力等。物理干擾是非選擇性干擾,對(duì)樣品元素的影響基本相似。
  制備類似于測(cè)試樣品的標(biāo)準(zhǔn)樣品是消除物理干擾的常用方法。當(dāng)樣品的成分未知或無法匹配時(shí),可以使用標(biāo)準(zhǔn)添加方法或稀釋方法來減少和消除物理干擾。
  2.化學(xué)干擾
  化學(xué)干擾是指由測(cè)試元件與其他組件之間的化學(xué)相互作用引起的干擾效應(yīng)。它主要影響測(cè)試元件的原子化效率,并且是原子吸收分光光度法中干擾的主要來源。這是由于在液相或氣相中被測(cè)元素的原子與干擾物質(zhì)的組成之間形成了熱力學(xué)更穩(wěn)定的化合物,這影響了被測(cè)元素化合物的離解和原子化。
  消除化學(xué)干擾的方法包括:化學(xué)分離;使用高溫火焰;加入釋放劑和保護(hù)劑等。
  3.電離干擾
  高溫下原子的電離會(huì)降低基態(tài)原子的濃度,并導(dǎo)致原子吸收信號(hào)降低,這種干擾稱為電離干擾。電離效應(yīng)隨溫度和電離平衡常數(shù)的增加而增加,而隨被測(cè)元素濃度的增加而減小。添加更容易電離的堿金屬元素可以有效消除電離干擾。
  4.光譜干擾
  光譜干擾包括譜線重疊、光譜通帶內(nèi)存在非吸收線、原子化池內(nèi)的直流發(fā)射、分子吸收、光散射等。當(dāng)采用銳線光源和交流調(diào)制技術(shù)時(shí),前3種因素一般可以不予考慮,主要考慮分子吸收和光散射地影響,它們是形成光譜背景的主要因素。
  5.分子吸收干擾
  分子吸收干擾是指由原子化過程中產(chǎn)生的氣體分子,氧化物和鹽分子吸收輻射引起的干擾。光散射是指在霧化過程中生成的固體顆粒會(huì)散射光,從而使散射光偏離光路,并且無法被檢測(cè)器檢測(cè)到,從而導(dǎo)致高吸收值。
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